N2 süreci neler vadediyor?
TSMC’nin paylaştığı teknik verilere göre N2 üretim süreci, N3E’ye kıyasla aynı güç tüketiminde yüzde 10 ila 15 arasında performans artışı sağlıyor. Aynı performans seviyesinde çalıştırıldığında ise güç tüketiminde yüzde 25 ila 30 oranında düşüş mümkün oluyor. Çip yoğunluğu tarafında ise karma tasarımlar için yaklaşık yüzde 15’lik bir artış söz konusu. Yalnızca mantık devrelerine odaklanan tasarımlarda ise transistör yoğunluğu artışı yüzde 20 seviyesine kadar çıkabiliyor. Bu da özellikle yüksek performanslı işlemciler ve yapay zeka hızlandırıcıları için N2’yi oldukça cazip bir seçenek haline getiriyor.
Bununla birlikte N2 süreci, güç dağıtım altyapısında da önemli bir yenilik sunuyor. TSMC, bu üretim düğümünde Super High Performance Metal-Insulator-Metal (SHPMIM) kapasitörlerini kullanıyor. Bu yeni kapasitörler, önceki SHDMIM tasarımına kıyasla iki katın üzerinde kapasitans yoğunluğu sağlıyor.
N2P ve A16 yolda
N2 sınıfı çiplerin ilk seri üretimi şirketin Tayvan’daki tesislerinde başlamış olsa da hızlı ilerleyiş yavaşlamayacak. Planlara göre 2026’nın ikinci yarısından itibaren N2 sürecine ek olarak geliştirilmiş varyantlar olan N2P ve A16 üretimine geçilecek.
N2P, N2’nin performans ve güç verimliliği açısından daha da optimize edilmiş bir versiyonu olarak konumlandırılıyor. TSMC, N2P’nin 2026’nın ikinci yarısında hacimli üretime geçmesini hedefliyor. A16 ise N2P temel alınarak geliştirilen ve arka taraf güç dağıtımı (Super Power Rail - SPR) teknolojisini kullanan özel bir sürüm.
Bu haberi ve diğer DH içeriklerini, gelişmiş mobil uygulamamızı kullanarak görüntüleyin: