ASML, EUV teknolojisindeki yeni atılımını duyurdu

Deniz Çakmak

Haber Editörü

ASML, EUV teknolojisindeki yeni atılımını duyurdu — Dünyanın ticari ölçekte **aşırı ultraviyole (EUV)** litografi makineleri üreten tek şirketi olan Hollanda merkezli **ASML**, çip üretim kapasitesini önemli ölçüde artıracak kritik bir teknoloji geliştirdi. Şirket, EUV ışık kaynağının gücünü mevcut **600 watt seviyesinden 1.000 watt’a çıkarmayı başardı.** Bu gelişmeyle birlikte şirket, **2030'a kadar çip üretiminde %50’ye varan artış** hedefliyor.

ASML’nin Kaliforniya’daki tesislerinde konuşan şirketin EUV ışık kaynağından sorumlu baş teknoloji uzmanı Michael Purvis, bunun kısa süreli bir laboratuvar gösterisi olmadığını vurgulayarak, sistemin müşteri ortamında sürekli olarak 1.000 watt güç üretebildiğini belirtti.

Çip üretiminin kalbindeki makine

EUV litografi makineleri, ileri seviye işlemcilerin üretiminde kritik rol oynuyor. TSMC ve Intel gibi dev üreticiler, gelişmiş yapay zeka ve yüksek performanslı hesaplama çiplerini üretmek için bu sistemleri kullanıyor.

Bu makineler o kadar stratejik öneme sahip ki, ABD yönetimleri Hollanda hükümetiyle iş birliği yaparak Çin’e ihracatını sınırlamış durumda. Bu durum, Çin’i kendi EUV teknolojisini geliştirmek üzere ulusal bir program başlatmaya yöneltti. Öte yandan ABD’de de ASML’ye rakip olmayı hedefleyen girişimler ortaya çıktı. xLight ve Substrate gibi girişimler, Amerikan alternatifleri geliştirmek için yüz milyonlarca dolar yatırım topladı.

Saatte 330 wafer hedefi

ASML’nin NXE serisi EUV makinelerinden sorumlu başkan yardımcısı Teun van Gogh, 2030'a kadar her bir makinenin saatte yaklaşık 330 silikon wafer (plaka) işleyebileceğini açıkladı. Bu rakam bugün yaklaşık 220 wafer seviyesinde.

Bir silikon wafer üzerinde, çip boyutuna bağlı olarak onlarca hatta binlerce çip üretilebiliyor. Daha yüksek ışık gücü, daha kısa pozlama süresi anlamına geliyor. Bu da saatlik üretim kapasitesini artırırken, çip başına maliyeti düşürüyor.

Yeni atılımın temelinde, saniyedeki kalay damlacığı sayısının iki katına çıkarılması ve plazmanın tek bir lazer darbesi yerine iki küçük lazer darbesiyle şekillendirilmesi yatıyor.

ASML yetkilileri, 1.000 watt seviyesinin yalnızca bir başlangıç olduğunu belirtiyor. Şirket, 1.500 watt’a ulaşmak için net bir yol haritasına sahip olduğunu ve teorik olarak 2.000 watt seviyesine ulaşmanın önünde temel bir engel görmediğini söylüyor.

EUV teknolojisindeki bu ilerleme, yapay zeka, veri merkezleri ve ileri seviye mobil işlemciler için gereken yüksek performanslı çiplerin daha hızlı ve daha düşük maliyetle üretilmesinin önünü açabilir.