Anlık Bildirim

Canon'un yeni devrimsel çip üretim tekniği, ASML'nin liderliğini sarsabilir

Canon'un geçen sene tanıttığı yeni nanoimprinting litografi cihazını yakında müşterilerine sunulacak. Yeni teknik mevcut litografi tekniklerine göre önemli avantajlara sahip.
Canon'un yeni çip üretim tekniği, ASML'nin liderliğini sarsabilir Tam Boyutta Gör
Geçen yıl Canon, ASML'nin aşırı ultraviyole (EUV) ve gelişmiş derin ultraviyole (DUV) litografi cihazlarıyla rekabet edebilecek ilk nanobaskı (nanoimprint) litografi (NIL) aracını tanıttı. Financial Times'ın haberine göre bu hafta şirket, müşterilerin ilk NIL makinesini bu yıl veya önümüzdeki yıl almaya hazırlandığını ancak bunun deneme çalışmaları için kullanılacağını söyledi.

EUV cihazlarından %90 daha az güç harcıyor

Nanobaskı litografi tekniği, klasik litografi teknikleriyle oyma baskı yapmak yerine levha üzerine damgalayarak baskı yapıyor. Firmanın iddiasına göre yeni teknik AMSL'nin EUV makinelerine göre %90 daha az güç harcıyor.

Canon'un Optik Ürünler Operasyonları başkanı Hiroaki Takeishi, Financial Times'a yaptığı açıklamada, Canon'un bu makineleri 2024 ve 2025'te sevk etmeye başlayacağını söyledi. Bu benzersiz teknoloji, basit, düşük maliyetli, son teknoloji çiplerin oluşturulmasına olanak sağlayacak.

Nanobaskı litografi nedir?

Canon'un 15 yılı aşkın bir süredir geliştirdiği nanoimprint litografi teknolojisi, çip tasarımlarını doğrudan silikon plakaların üzerine damgalayarak çip yapımına yeni bir yaklaşım sunuyor. Bu yenilikçi yöntem, lazerlere dayanan geleneksel DUV ve EUV litografi teknolojilerinden önemli ölçüde ucuz ve enerji açısından verimli olmayı vaat ediyor. Ayrıca şirket, NIL'nin 5nm üretim sürecine eşdeğer çipler oluşturmak için kullanılabileceğini ve ileride 2nm seviyesine kadar inebileceğini belirtiyor.

Canon, nanobaskı litografi makineleriyle DUV ve EUV araçlarını değiştirmek yerine bu araçlarla beraber çalışabilmesini hedefliyor. NIL cihazlarının, mantık çipleri için olmasa bile 3D NAND çiplerini yapmak için kullanılabileceği belirtiliyor.

Cihazın başarısına şüpheyle yaklaşılıyor

Canon'un son teknoloji fabrikasyon araçları pazarına girişi, ASML'nin tartışılmaz litografi lideri olduğu mevcut durumu değiştirme imkanına sahip. Ancak NIL, DUV ve EUV ile uyumlu olmadığından mevcut tasarımlara uygulanması zorluklar içeriyor. Bu arada, sadece nanobaskı litografisine dayalı bir üretim süreci geliştirmenin mümkün olup olmadığı da belirsiz.

Konuyla ilgili görüşünü belirten araştırma şirketi Radio Free Mobile'ın başkanı Richard Windsor, "Nanobaskı teknolojisi üstün bir teknoloji olsaydı, sanırım şimdiye kadar çalışır durumda ve hacimli olarak piyasada olurdu" sözleriyle kuşkusunu ifade etti. Sonuç olarak, endüstri analistlerinin şüpheyle yaklaştığı Canon'un nanobaskı litografisinin başarılı olup olmayacağını zaman gösterecek.

Bu haberi, mobil uygulamamızı kullanarak indirip,
istediğiniz zaman (çevrim dışı bile) okuyabilirsiniz:
DH Android Uygulamasını İndir DH iOS Uygulamasını İndir
Sorgu:

Editörün Seçtiği Sıcak Fırsatlar

Tavsiyelerimiz

Yeni Haber
şimdi
Geri Bildirim